鋁(lv)氧(yang)化膜(mo)質(zhi)量(liang)的(de)質(zhi)量(liang)受到很多(duo)因素的(de)影響(xiang)，這些因素如果你稍(shao)不(bu)注意或許(xu)就(jiu)會影響(xiang)你的(de)鋁(lv)氧(yang)化膜(mo)質(zhi)量(liang)，接下來為大家分析下影響(xiang)鋁(lv)氧(yang)化膜(mo)質(zhi)量(liang)的(de)因素有哪些？
1、電(dian)解(jie)液(ye)溫度:電(dian)解(jie)液(ye)的(de)溫度對氧化膜(mo)(mo)的(de)質量有(you)很(hen)大的(de)影(ying)響。隨著溫度的(de)升高，薄膜(mo)(mo)的(de)溶解(jie)速率增大，薄膜(mo)(mo)厚度減小。
2、氧(yang)(yang)化(hua)時(shi)間:氧(yang)(yang)化(hua)時(shi)間的(de)選(xuan)擇取決(jue)于(yu)電(dian)解液的(de)濃(nong)度(du)、溫度(du)、陽(yang)極(ji)電(dian)流(liu)密(mi)度(du)和所需的(de)膜厚。
3、攪拌移動(dong):促(cu)進電解(jie)液的對(dui)流，增(zeng)強(qiang)冷卻效(xiao)果，保(bao)證溶液溫度的均勻性，不會因金屬(shu)局部加(jia)熱而導致(zhi)氧化膜(mo)質(zhi)量下降。
4，電(dian)(dian)流(liu)密度(du)(du)(du)(du):在一定(ding)范圍內，電(dian)(dian)流(liu)密度(du)(du)(du)(du)增大，膜(mo)的(de)生長速度(du)(du)(du)(du)增大，氧化時間縮短，膜(mo)的(de)孔隙(xi)增多，硬度(du)(du)(du)(du)和耐磨性增大;如果電(dian)(dian)流(liu)密度(du)(du)(du)(du)過(guo)高，會(hui)導致零(ling)件(jian)表面過(guo)熱，局部溶(rong)液溫度(du)(du)(du)(du)升高，薄(bo)膜(mo)的(de)溶(rong)解(jie)速度(du)(du)(du)(du)增加，電(dian)(dian)流(liu)密度(du)(du)(du)(du)會(hui)燒毀零(ling)件(jian)。當(dang)膜(mo)低(di)時，生長速度(du)(du)(du)(du)慢，但膜(mo)致密，硬度(du)(du)(du)(du)和耐磨性降低(di)。
5、硫酸(suan)濃(nong)度(du)(du):一般為15%-20%。隨著(zhu)濃(nong)度(du)(du)的增加,電影的溶解速度(du)(du)增加,電影的增長率降低(di),膜(mo)(mo)的孔隙度(du)(du)高(gao),吸附力強,這部電影是彈性(xing)、染(ran)色(se)性(xing)能好(很容易(yi)染(ran)深色(se)),但硬(ying)度(du)(du)和耐磨性(xing)略差;而隨著(zhu)硫酸(suan)濃(nong)度(du)(du)的降低(di)，氧(yang)化(hua)膜(mo)(mo)的生長速度(du)(du)加快，膜(mo)(mo)孔小，硬(ying)度(du)(du)高(gao)，耐磨性(xing)好。
以(yi)上就(jiu)是關于影響鋁(lv)氧(yang)化膜(mo)質量的(de)因素(su)介紹了。